ICP को लागि ४ इन्च ६ इन्च वेफर होल्डरको लागि SiC सिरेमिक प्लेट/ट्रे

१. अर्धचालक निर्माण

SiC सिरेमिक प्लेटहरू सामान्यतया CVD (रासायनिक भाप निक्षेप), PVD (भौतिक भाप निक्षेप), र एचिंग प्रणाली जस्ता अर्धचालक निर्माण उपकरणहरूमा वेफर क्यारियर, ससेप्टर र पेडेस्टल प्लेटहरूको रूपमा प्रयोग गरिन्छ। तिनीहरूको उत्कृष्ट थर्मल चालकता र कम थर्मल विस्तारले तिनीहरूलाई समान तापक्रम वितरण कायम राख्न अनुमति दिन्छ, जुन उच्च-परिशुद्धता वेफर प्रशोधनको लागि महत्त्वपूर्ण छ। संक्षारक ग्याँसहरू र प्लाज्माहरूमा SiC को प्रतिरोधले कठोर वातावरणमा स्थायित्व सुनिश्चित गर्दछ, कण प्रदूषण र उपकरण मर्मतसम्भार कम गर्न मद्दत गर्दछ।

२. एलईडी उद्योग - आईसीपी एचिंग

LED उत्पादन क्षेत्रमा, SiC प्लेटहरू ICP (Inductively Coupled Plasma) etching प्रणालीहरूमा प्रमुख घटकहरू हुन्। वेफर होल्डरहरूको रूपमा काम गर्दै, तिनीहरूले प्लाज्मा प्रशोधनको क्रममा नीलमणि वा GaN वेफरहरूलाई समर्थन गर्न स्थिर र थर्मल रूपमा बलियो प्लेटफर्म प्रदान गर्छन्। तिनीहरूको उत्कृष्ट प्लाज्मा प्रतिरोध, सतह समतलता, र आयामी स्थिरताले उच्च etching शुद्धता र एकरूपता सुनिश्चित गर्न मद्दत गर्दछ, जसले LED चिपहरूमा उपज र उपकरण प्रदर्शन बढाउँछ।

३. फोटोभोल्टिक्स (PV) र सौर्य ऊर्जा

SiC सिरेमिक प्लेटहरू सौर्य सेल उत्पादनमा पनि प्रयोग गरिन्छ, विशेष गरी उच्च-तापमान सिन्टरिङ र एनिलिङ चरणहरूमा। उच्च तापक्रममा तिनीहरूको जडत्व र वार्पिङ प्रतिरोध गर्ने क्षमताले सिलिकन वेफरहरूको निरन्तर प्रशोधन सुनिश्चित गर्दछ। थप रूपमा, फोटोभोल्टिक कोशिकाहरूको दक्षता कायम राख्न तिनीहरूको कम प्रदूषण जोखिम महत्त्वपूर्ण छ।