4H-सेमी HPSI 2inch SiC सब्सट्रेट वेफर उत्पादन डमी अनुसन्धान ग्रेड

सिलिकन कार्बाइड सब्सट्रेट मुख्यतया प्रवाहकीय र अर्ध-इन्सुलेट प्रकारमा विभाजित हुन्छ, प्रवाहकीय सिलिकन कार्बाइड सब्सट्रेटलाई एन-टाइप सब्सट्रेटमा मुख्यतया एपिटेक्सियल GaN-आधारित एलईडी र अन्य अप्टोइलेक्ट्रोनिक उपकरणहरू, SiC- आधारित पावर इलेक्ट्रोनिक उपकरणहरू, इत्यादिका लागि प्रयोग गरिन्छ। इन्सुलेट SiC सिलिकन कार्बाइड सब्सट्रेट मुख्यतया GaN उच्च-शक्ति रेडियो फ्रिक्वेन्सी उपकरणहरूको epitaxial निर्माणको लागि प्रयोग गरिन्छ।साथै उच्च शुद्धता अर्ध-इन्सुलेशन HPSI र SI अर्ध-इन्सुलेशन फरक छ, उच्च शुद्धता अर्ध-इन्सुलेशन वाहक एकाग्रता 3.5 * 1013 ~ 8 * 1015/cm3 दायरा, उच्च इलेक्ट्रोन गतिशीलता संग;अर्ध-इन्सुलेशन एक उच्च-प्रतिरोधी सामग्री हो, प्रतिरोधात्मकता धेरै उच्च छ, सामान्यतया माइक्रोवेभ उपकरण सब्सट्रेटहरूको लागि प्रयोग गरिन्छ, गैर-प्रवाहक।

अर्ध-इन्सुलेट सिलिकन कार्बाइड सब्सट्रेट पाना SiC वेफर

SiC क्रिस्टल संरचनाले यसको भौतिक निर्धारण गर्दछ, Si र GaAs को सापेक्ष, SiC भौतिक गुणहरूको लागि छ;निषिद्ध ब्यान्ड चौडाइ ठूलो छ, Si को भन्दा 3 गुणा नजिक, यन्त्रले दीर्घकालीन विश्वसनीयता अन्तर्गत उच्च तापक्रममा काम गर्छ भनेर सुनिश्चित गर्न;ब्रेकडाउन फिल्ड बल उच्च छ, Si को 1O गुणा हो, उपकरण भोल्टेज क्षमता सुनिश्चित गर्न, उपकरण भोल्टेज मान सुधार गर्न;संतृप्ति इलेक्ट्रोन दर ठूलो छ, यन्त्रको आवृत्ति र शक्ति घनत्व बढाउनको लागि, Si को 2 गुणा हो;थर्मल चालकता उच्च छ, Si भन्दा बढी, थर्मल चालकता उच्च छ, थर्मल चालकता उच्च छ, थर्मल चालकता उच्च छ, थर्मल चालकता उच्च छ, Si भन्दा बढी, थर्मल चालकता उच्च छ, थर्मल चालकता उच्च छ।उच्च थर्मल चालकता, Si को 3 गुणा भन्दा बढी, यन्त्रको तातो अपव्यय क्षमता बढाउँदै र उपकरणको लघुकरणलाई महसुस गर्दै।